Установка безмасковой литографии MLC600
Установка MLC600 предназначена для безмаскового совмещения и экспонирования для формирования рисунка
в слое фоторезиста на пластинах и подложках.
Преимущества установки
- Компактный дизайн для лабораторного применения
- Автоматическое совмещение, совмещение по обратной стороне
- Автоматическая фокусировка в режиме реального времени
- Высокая скорость экспонирования
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Область экспонирования | 195х195 мм |
| Толщина пластин/подложек | 0,2 – 4 мм |
| Разрешение | ≤0,6 мкм |
| Точность совмещения | ±0.5 мкм |
| Лазерный источник | 375 нм / 405 нм |
| Скорость экспонирования | 300 мм²/мин (при максимальном разрешении) |