Безмасковая литография

Безмасковая литография — технология прямого формирования микроструктур на поверхности материала без использования фотошаблонов. Изображение создаётся цифровой оптической системой и проецируется непосредственно на слой фоторезиста, что позволяет быстро изменять топологию, сократить время подготовки производства и изготавливать опытные образцы с высокой точностью.

Настольная установка безмасковой литографии ML100

ML100 – это настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования для формирования рисунка в слое фоторезиста на пластинах и подложках. Установка использует технологию DMD (Digital Micromirror Device), позволяя уйти от необходимости использования фотошаблонов, что существенно сокращает производственный цикл, а также затраты на производство или исследования. Использование светодиодного источника в установке ML100 позволяет получать идеально гладкие стенки формируемых структур.

Установка безмасковой литографии MLC600

ML100 – это настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования для формирования рисунка в слое фоторезиста на пластинах и подложках. Установка использует технологию DMD (Digital Micromirror Device), позволяя уйти от необходимости использования фотошаблонов, что существенно сокращает производственный цикл, а также затраты на производство или исследования. Использование светодиодного источника в установке ML100 позволяет получать идеально гладкие стенки формируемых структур.