Обработка фоторезиста

Процесс фотолитографии предполагает проведение нескольких процессов обработки фоторезиста: нанесение фоторезистивных слоев, сушка, задубливание, проявление, снятие и отмывка полупроводниковой пластины/подложки от остатков фоторезиста.