Плазменная обработка

Установка плазменной очистки 60L/ 60L-RF

Установка плазменной очистки 60L/ 60L-RF использует свойства низкотемпературной плазмы, позволяя ей взаимодействовать с поверхностью материала и вступать с ней в реакцию. В результате поверхность обрабатываемого материала подвергается физическому и/или химическому воздействию в зависимости от используемых газов, а также очищается от загрязнений. Это улучшает смачиваемость поверхности и способствует внедрению новых химических функциональных групп.