Плазменное травление
Плазменное травление: реактивное ионное травление RIE, BOSCH-процесс
Оборудование
Установка реактивного ионного травления TFA100E-RIE
Установка предназначена для реактивного ионного травления пассивирующих слоев (SiO2, SiNx), адгезионных слоев (TaN), травления кремния с обратной стороны, травления вольфрама в отверстиях и других процессов.