Система монтажа кристаллов:

Перемещение (X/Y/Z): 350 мм × 500 мм × 50 мм
Ось вращения: 360° с точностью 0,02°
Минимальный размер кристалла: 0,15 × 0,2 мм
Усилие прижима: 10-2000 г (точность ±10%)
Автоматическая смена инструментов: до 26 штук

Материалы:

Стандартные носители: 2”×2”, 4”×4” гельпак/кассета

Опционально: автоматический конвейер, поддержка 6”/8” пластин

Система эвтектической сварки:

Нагрев: импульсный
Температурный диапазон: 25–400 °С (опционально до 600 °С)
Скорость нагрева: до 50 °С/с
Контроль процесса: защита формергазом, мониторинг температурного профиля

Система дозирования клея: Программируемый контроль объема
Опционально: возможность создания специальных профилей
дозирования

Система штампелевания (опционально): Автоматическая смена инструментов для штампелевания

Поддержка различных размеров кристаллов и материалов
клея

Система машинного зрения:

Камеры: 2 нижние + 1 верхняя
Источник света: 4 программируемых источника на камеру (коллимированный белый свет, 3 кольцевых RGB источников света)

Электропитание: 220-240 В, 50 Гц, 20А
Сжатый воздух: 0,6 МПа, 300 л/мин
Азот: 0,3 МПа, 30 л/мин, чистотой 99,9%
Вакуум: -80 кПа, 120 л/мин
Габариты: 1360 мм × 1360 мм × 1950 мм
Масса: 2000 кг
Рабочая температура: 23±3 °C
Дополнительные функции:

• 180° флип-система с сервоприводом
• Автоматическая калибровка давления
• Поддержка многокристальной сборки